物理气相沉积(PVD)技术
技术

沉积方法

真空气相沉积类别

真空气相沉积方法有各种不同的流程。神钢设计、制造的设备采用了如下的流程。

神钢技术

电弧离子涂层

  • 抽真空处理室,引入氮气。
  • 在金属靶标表面生成电弧放电。
  • 蒸发电弧放电离子化的靶标金属。
  • 在基板上通负电压引起离子与氮气反应。
  • 金属氮化物在基板上沉积。

AIP®

AIP® 是株式会社神户制钢所的注册商标。AIP®系统S 系列搭载了等离子体强化型阴极,推进产品的技术创新。在不损失沉积率的同时实现极度光滑的表面。 AIP® 成功地减少了液滴这一阴极电弧沉积的主要缺陷。

非平衡磁控溅射

UnBalanced Magnetron

  • 氩气活化为等离子体形式的氩离子。
  • 氩离子从靶标溅出金属原子。
  • 非平衡磁场引导氩离子围绕基板。
  • 在基板上通负电压引发氩离子诱导活性能量到金属离子,沉积到基板上。
  • 基板上形成固体金属膜。

UBMS®

UBMS® 亦是株式会社神户制钢所的注册商标。大幅度提高了类金刚石涂层在各种用途的附着力。UBMS® 系统不仅实现了类金刚石镀膜用途的多样化,而且还可开发其他应用该技术的薄膜。

涂层设备特点

Effect of Surface Treatment

PVD coating constitutes approx. 40% of coated tools!

神钢物理气相沉积涂层的效果

Life Expansion of Cold Working Punches
Reduction of Wear of WC endmill

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